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磁流變拋光機床

介紹：磁流變拋光技術(shù)是可控柔體確定性拋光技術(shù)，應(yīng)用于光學(xué)元件精密、超精密制造，以精確微量確定性去除、高效率獲得數(shù)十納米以下高精度面形、納米級表面質(zhì)量且近無亞表面缺陷，很好地滿足航天、航空和國防等領(lǐng)域光學(xué)元件...

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產(chǎn)品詳情

磁流變 拋光機床: 磁流變拋光技術(shù)是可控柔體確定性拋光技術(shù)，應(yīng)用于光學(xué)元件精密、超精密制造，以精確微量確定性去除、高效率獲得數(shù)十納米以下高精度面形、納米級表面質(zhì)量且近無亞表面缺陷，很好地滿足航天、航空和國防等領(lǐng)域光學(xué)元件的超精密加工需求。

適用材料石英、微晶、ULE、BK7、單晶硅、碳化硅、藍(lán)寶石、硫化鋅等；

適用形狀平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面；

加工精度納米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)；

表面粗糙度 優(yōu)于0.5nm RMS；

產(chǎn)品優(yōu)勢

磁流變拋光機床確定性拋光；供貨周期短；性價比高；高穩(wěn)定拋光功能頭；數(shù)控操作簡單；穩(wěn)定的工藝軟件；先進(jìn)的軟件算法；去除穩(wěn)定性好；高表面質(zhì)量；高效率修形。

磁流變拋光機床

技術(shù)參數(shù)

項目	ZJY-NCM-600	ZJY-NCM-800	ZJY-NCM-1000
運動軸數(shù)	X/Y/Z/A/B六軸六聯(lián)動（根據(jù)客戶需求，三軸、五軸、六軸可選）
加工空間	500×600×240mm	700×800×300mm	1000×800×350mm
驅(qū)動形式	伺服電機、直線導(dǎo)軌
重復(fù)定位精度	X/Y/Z 優(yōu)于±5μm A/B ± 20"	X/Y/Z 優(yōu)于±5μm A/B/± 20"	X/Y/Z 優(yōu)于±10μm A/B ± 20"
最大運動速度	X/Y/Z6000mm/min A/B/C 20rpm
拋光輪尺寸	50mm/100mm/200mm	100mm/200mm/340mm	200mm/340mm
拋光輪最大轉(zhuǎn)速	750rpm/300rpm	750rpm/300rpm/200rpm	300rpm/200rpm
拋光輪最大跳動	3μm /5μm/8μm	5μm/8μm/20μm	8μm/20μm
流量循環(huán)穩(wěn)定性	2%(4h)	2%(4h)	2%(5h)
粘度循環(huán)穩(wěn)定性	0.5%(4h)	0.5%(4h)	0.5%(4h)
去除函數(shù)穩(wěn)定性	2%(4h)	2%(4h)	2%(5h)
加工精度	批量生產(chǎn)水平：優(yōu)于1/70λ (λ=632.8nm) RMS 實驗室水平：優(yōu)于1/100λ (λ=632.8nm) RMS