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磁流變拋光技術(shù)的發(fā)展歷程,卓精藝帶你詳細了解

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瀏覽:- 發(fā)布日期:2022-05-09 10:08:00【

從之前的文章中我們得知:磁流變拋光技術(shù)是20世紀(jì)80年代國外發(fā)展起來的一種新興的高端光學(xué)制造技術(shù),那么你知道這種技術(shù)的詳細發(fā)展歷程嗎?跟著卓精藝一起來看看。

卓精藝磁流變拋光機

-卓精藝磁流變拋光機-

磁流變拋光技術(shù)首先由前蘇聯(lián)的W. I. Kordonski 等人在位于白俄羅斯明斯克的傳熱傳質(zhì)研究所的實驗室里發(fā)明,他們在20世紀(jì)80年代末驗證了合理配制的磁流變液在磁場中可以進行光學(xué)拋光,90 年代初W. I. Kordonski在明斯克制備了第一臺磁流變拋光技術(shù)原理樣機,和現(xiàn)代的輪式磁流變并不一樣,它是利用一個環(huán)形槽儲存磁流變液,環(huán)形槽轉(zhuǎn)動的同時帶動磁流變液,經(jīng)過磁場時磁流變液變硬,實現(xiàn)光學(xué)元件的拋光。從這種拋光結(jié)構(gòu)可以明顯看出,原始的磁流變拋光設(shè)備還不具備CCOS的基本思想,此時僅能對非球面進行拋亮,很難對面形進行修整。

由于蘇聯(lián)的解體導(dǎo)致白俄羅斯沒有財力也沒有工程需求的動力去發(fā)展磁流變拋光技術(shù),但美國投資人經(jīng)過對蘇聯(lián)遺留的高端科技的調(diào)查,很快意識到磁流變拋光技術(shù)的潛在能力。他們把W. I. Kordonski等人邀請至美國羅切斯特大學(xué)光學(xué)中心(COM),兩方進行合作研發(fā)磁流變拋光設(shè)備。

1993年以白俄羅斯的W. I. Kordonski和美國羅切斯特大學(xué)Steve Jacobs 為主導(dǎo)的合作團隊制備出了磁流變拋光原理樣機,其與1992年W. I. Kordonski等人在明斯克制備的磁流變拋光原理樣機一致,通過大量實驗驗證了磁流變高效高精度低損傷的光學(xué)拋光能力,初步得到了D字形的材料去除分布。

真正的革新始于1995年COM對正置式輪式磁流變拋光設(shè)備的研制成功,W. I. Kordonski首先提出了這種輪式結(jié)構(gòu),其工件位于拋光輪上方,一般稱為正置式磁流變拋光設(shè)備。輪式磁流變拋光設(shè)備的發(fā)明使得磁流變拋光技術(shù)可以真正用于非球面光學(xué)修形和拋光,借助CCOS的基本思想,現(xiàn)代磁流變拋光技術(shù)被真正地建立起來了。

1996年COM制備了正置式磁流變拋光數(shù)控中心,由此磁流變拋光技術(shù)真正進入了光學(xué)加工技術(shù)的行列。

1997年在COM對磁流變拋光技術(shù)研究的基礎(chǔ)上,建立了QED公司,開始了磁流變拋光的商業(yè)化道路。

國內(nèi)長春光學(xué)精密機械研究所、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、蘇州大學(xué)、清華大學(xué)、國防科技大學(xué)、湖南大學(xué)等單位都對磁流變拋光技術(shù)開展了研究。

國防科技大學(xué)李圣怡教授帶領(lǐng)團隊突破重重技術(shù)瓶頸, 2012年成功自主研制了磁流變和離子束兩種超精拋光裝備,創(chuàng)造了光學(xué)零件加工的亞納米精度,并通過國家權(quán)威部門驗收。據(jù)專家介紹,這一成果使我國成為繼美國、德國之后第3個掌握高精度光學(xué)零件制造加工技術(shù)的國家,并成為世界上唯一同時具有磁流變和離子束拋光裝備研發(fā)能力的國家。

國防科大精密工程創(chuàng)新團隊先后研發(fā)出大口徑2米磁流變復(fù)合拋光機床和大口徑2米離子束拋光機床,具備2m量級大口徑球面、自由曲面及離軸非球面的高效高精度確定性加工。

2019年,湖南諾貝斯特科技有限公司專注于提供高品質(zhì)超精密光學(xué)智能拋光裝備,推出應(yīng)用型卓精藝小磨頭拋光機和磁流變拋光機,應(yīng)用于企業(yè)光學(xué)智能數(shù)控拋光。設(shè)備供貨周期短、高性價比。

目前,磁流變拋光技術(shù)是可控柔體確定性拋光技術(shù),應(yīng)用于光學(xué)元件精密、超精密制造,以精確微量確定性去除、高效率獲得數(shù)十納米以下高精度面形、納米級表面質(zhì)量且近無亞表面缺陷,很好地滿足航天、航空和國防等領(lǐng)域光學(xué)元件的超精密加工需求。

磁流變拋光機加工碳化硅元件

-磁流變拋光機加工碳化硅元件-

卓精藝公司研發(fā)生產(chǎn)的磁流變拋光機,可實現(xiàn)超光滑、超精密拋光,加工精度:納米精度加工,RMS 1/100λ(λ=632.8nm);表面粗糙度:優(yōu)于0.5nm RMS;可對石英、微晶、ULE、BK7、單晶硅、碳化硅、藍寶石、硫化鋅等材料,實現(xiàn)平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面加工。如果您對我們感興趣,歡迎來電咨詢!