之前的文章，我們?cè)?jīng)介紹過(guò)離子束拋光的定義和優(yōu)點(diǎn)，今天，我們繼續(xù)來(lái)看看離子束拋光機(jī)床。

離子束拋光

離子束拋光機(jī)床采用離子束束源位置、姿態(tài)實(shí)時(shí)在線調(diào)控技術(shù)，提升了離子束修形加工能力；基于IPC+UMAC的開(kāi)放式數(shù)控平臺(tái)開(kāi)發(fā)了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的光學(xué)制造CAM系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了工藝機(jī)床與控制系統(tǒng)的一體化集成，可以有效、穩(wěn)定、可靠地實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件的超精密高效加工。

-離子束拋光機(jī)床-

去除函數(shù)

離子束拋光是基于計(jì)算機(jī)控制光學(xué)表面成形(CCOS)的拋光技術(shù)，通過(guò)去除函數(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)自動(dòng)生成數(shù)控程序來(lái)完成元件表面面形誤差的修正。光學(xué)鏡面離子束拋光去除函數(shù)定義為單位時(shí)間內(nèi)工件材料的去除量分布。離子束拋光一般是采用聚焦離子束，產(chǎn)生的去除函數(shù)近似高斯形狀。測(cè)量所得的離子束去除函數(shù)可以用二維高斯函數(shù)來(lái)擬合。

我們采用直徑40mm、功率100W的考夫曼離子源，設(shè)置束壓600V、束流30mA、加速電壓120V、靶距150 mm、入射角為0°，在熔石英基片上，駐留時(shí)間4 min得到擬合近似二維高斯分布去除函數(shù)。

-離子束拋光二維高斯去除函數(shù)-

二維高斯函數(shù)數(shù)學(xué)表達(dá)式如下

擬合得到的高斯函數(shù)是測(cè)量得到的去除函數(shù)的近似。一般用擬合得到的高斯函數(shù)來(lái)計(jì)算拋光工藝過(guò)程的駐留時(shí)間。去除函數(shù)有兩個(gè)描述參數(shù)：A和σ。其中，參數(shù)A與高斯函數(shù)中心最高點(diǎn)的值相等，表示離子束去除函數(shù)中心具有最大的材料去除速率，在不混淆的情況下可以稱為峰值去除速率；σ是分布參數(shù)，描述了去除函數(shù)的分布情況； (x0, y0)為高斯函數(shù)中心最高點(diǎn)坐標(biāo)。

卓精藝，專注于提供前沿性的高品質(zhì)超精密光學(xué)智能拋光裝備制造（小磨頭、磁流變、離子束、超光滑）、光學(xué)材料、光機(jī)電定制產(chǎn)品、高精度復(fù)雜光學(xué)元件加工制造與檢測(cè)、先進(jìn)工藝技術(shù)方案及轉(zhuǎn)讓、國(guó)際技術(shù)合作等服務(wù)，服務(wù)于國(guó)防、安防、科研等應(yīng)用領(lǐng)域，為客戶提供中高端光學(xué)系統(tǒng)的產(chǎn)品和解決方案。如果您對(duì)我們感興趣，歡迎來(lái)電咨詢