重大光學(xué)工程、光刻機(jī)系統(tǒng)以及強(qiáng)激光武器等，對光學(xué)平面、球面及非球面元件的超精密加工提出了較強(qiáng)的需求，傳統(tǒng)拋光技術(shù)已經(jīng)難以滿足這些元件的加工質(zhì)量要求。一種新型的拋光技術(shù)、光學(xué)制造界的革命性技術(shù)——磁流變拋光技術(shù)日趨成熟。

磁流變拋光技術(shù)利用磁流變拋光液的可控流變特性進(jìn)行加工，目前已經(jīng)實(shí)現(xiàn)大口徑平面拋光工藝的工程突破，完美解決了傳統(tǒng)拋光技術(shù)難以達(dá)到的質(zhì)量要求。

在拋光機(jī)的設(shè)計(jì)方面，攻克了高精度、高剛度與高動(dòng)態(tài)響應(yīng)床身、高強(qiáng)度精密邊緣散射電磁場裝置、高黏度大比重流體循環(huán)系統(tǒng)以及多運(yùn)動(dòng)量、多物理量與專用工藝過程的集成控制等關(guān)鍵單元模塊的工程研制技術(shù)，成功構(gòu)建了一套以“柔性磨頭”為核心的五軸四聯(lián)動(dòng)大口徑工程樣機(jī)，具備了平面、球面、非球面及自由曲面的數(shù)控加工能力，并具備材料高效去除、面形精度收斂以及表面紋理控制3種工藝模式，其最大平面加工尺寸為1.2 mx1.2 m，最大球面及非球面加工口徑為φ700mm。

-磁流變拋光機(jī)-

在拋光液的制備方面，采用以顆粒改性為主、基液改性為輔的技術(shù)路線，解決了復(fù)合鐵粉的制備、水基載液的改性、拋光粉的優(yōu)選以及拋光液的穩(wěn)定性優(yōu)化等關(guān)鍵技術(shù)難題，成功地制備出滿足BK7和K9等軟質(zhì)玻璃材料超精密拋光要求的水基磁流變拋光液。

-超光滑磁流變拋光液-

在工藝軟件開發(fā)方面，基于Preston去除模型，建立了多軸聯(lián)動(dòng)工藝控制模型，解決了去除函數(shù)提取、駐留時(shí)間求解、面形模擬仿真以及拋光軌跡規(guī)劃等關(guān)鍵技術(shù)難題，開發(fā)了一套平面拋光專用工藝軟件，可與主流的WYKO、ZYGO等檢測系統(tǒng)以及先進(jìn)的PMAC、SIEMENS等數(shù)控系統(tǒng)兼容。

卓精藝磁流變拋光機(jī)，可實(shí)現(xiàn)超光滑、超精密拋光，加工精度：納米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)；表面粗糙度：優(yōu)于0.5nm RMS；可對石英、微晶、ULE、BK7、單晶硅、碳化硅、藍(lán)寶石、硫化鋅等材料，實(shí)現(xiàn)平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面加工。如果您對我們感興趣，歡迎來電咨詢！