為滿足現(xiàn)代天文學(xué)、軍事等領(lǐng)域?qū)Υ罂趶?、高精度的光學(xué)元件的需求，計(jì)算機(jī)控制表面成型技術(shù)(CCOS)在精密光學(xué)元件加工上得到了廣泛的應(yīng)用與發(fā)展。

從小尺寸的光學(xué)鏡片到大型天文望遠(yuǎn)鏡，CCOS都為其光學(xué)器件的制造提供了確定性的材料去除技術(shù)。

目前對(duì)光學(xué)元件常用的加工方法主要包括：磁流變拋光、氣囊拋光、數(shù)控小工具拋光以及離子束拋光、高頻振動(dòng)拋光等。

而數(shù)控拋光是從20世紀(jì)70年代開(kāi)始興起并在光學(xué)加工應(yīng)用中發(fā)展得較為成熟的一種拋光技術(shù)，其特點(diǎn)是利用一個(gè)尺寸比加工工件小得多的拋光工具，在計(jì)算機(jī)控制下以一定的路線、速度和壓力在工件表面進(jìn)行材料去除，從而得到比傳統(tǒng)加工方法精度更高的加工結(jié)果。

在極端光學(xué)系統(tǒng)中，其元器件的表面誤差是影響整個(gè)系統(tǒng)成像和運(yùn)行質(zhì)量的極為關(guān)鍵的因素。光學(xué)元件表面誤差按空間頻率主要分為低頻誤差、中頻誤差和高頻誤差三類。

低頻誤差能使光學(xué)元件產(chǎn)生像差，導(dǎo)致光學(xué)系統(tǒng)成像扭曲；中頻誤差能造成光線的小角度散射，進(jìn)而影響系統(tǒng)成像的對(duì)比度；而高頻誤差的存在能使光線發(fā)生大角度散射，從而使得光學(xué)元件的鏡面反射率明顯降低。

要抑制誤差，少不了理論模型與去除函數(shù)(TIF)。

有了理論模型，就可以計(jì)算出誤差的大小。

去除函數(shù)，在小工具數(shù)控拋光中定義為單位時(shí)間內(nèi)的材料去除量，其大小和分布受不同的拋光方式和拋光參數(shù)影響。從理論上講，拋光過(guò)程實(shí)際就是去除函數(shù)在工件上移動(dòng)后去除量的疊加過(guò)程。也就是說(shuō)有了去除函數(shù)就可以控制去除量，通過(guò)參數(shù)的調(diào)整來(lái)抑制誤差。

-雙行星運(yùn)動(dòng)拋光方式原理示意-

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