影響磁流變拋光效果的因素很多，工件的曲率半徑、工件浸入磁流變拋光液中的深度、工件軸的擺角、拋光時(shí)間、運(yùn)動盤的速度、工件與運(yùn)動盤形成的間隙大小、磁場強(qiáng)度、拋光駐留時(shí)間、拋光頭形狀、磨料種類、粒度等因素都可能對拋光效果有影響。

今天，卓精藝重點(diǎn)談3個(gè)因素對磁流變拋光效果的影響。

1、壓力

磁流變拋光液對工件的壓力是一個(gè)比較復(fù)雜的影響因素，它主要由流體動壓力和磁場產(chǎn)生的壓力以及磁流變液的重力三部分組成。磁場產(chǎn)生的壓力包括磁化壓力和磁致伸縮壓力。

由于磁流變液是不可壓縮的，因此它在磁場中由于體積變化而引起的磁致伸縮壓力近似為零。當(dāng)只考慮磁化壓力時(shí)，有磁流變拋光不是單點(diǎn)進(jìn)行加工，而是磁流變液與工件接觸的部分都處于被加工狀態(tài)。

在采用磁流變液加工工件表面上任一點(diǎn)時(shí)（指該點(diǎn)距離拋光輪位置最近），工件表面與磁流變液接觸區(qū)域內(nèi)的所有點(diǎn)都處于被拋光狀態(tài)，并且各點(diǎn)的磁場強(qiáng)度均不等。因此與壓力有關(guān)的磁流變拋光工藝參數(shù)有磁場強(qiáng)度、拋光輪與工件的間隙、磁流變液成分等。

-卓精藝磁流變拋光機(jī)-

2、速度

根據(jù)研究，相對速度越高，磁流變拋光去除效率越高。但是，在其他實(shí)驗(yàn)條件固定的情況下，過高的相對速度不利于獲得較好的表面粗糙度。

根據(jù)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析可知，為了得到理想的工件粗糙度,相對速度應(yīng)控制在一個(gè)適當(dāng)?shù)膮^(qū)域范圍。因此，不同的拋光階段，工件自轉(zhuǎn)頻率和拋光輪轉(zhuǎn)速都應(yīng)選取一個(gè)適當(dāng)?shù)臄?shù)值。

3、拋光駐留時(shí)間

在磁流變拋光中，可以通過改變駐留時(shí)間來控制工件表面的去除量，因?yàn)椴牧系娜コ颗c駐留時(shí)間近似呈線性關(guān)系。

工件加工過程中，機(jī)床y軸方向上由于存在進(jìn)給速度，因此進(jìn)給速度與拋光駐留時(shí)間成反比例關(guān)系。為了提高拋光效率，結(jié)合工件拋光前后面形材料的去除量以及其他的工藝參數(shù)，在粗拋階段，工件的進(jìn)給速度需選取一個(gè)適當(dāng)值。

可見，想要獲得好的磁流變拋光效果，需要對多種因素進(jìn)行控制。

卓精藝磁流變拋光機(jī)，可實(shí)現(xiàn)超光滑、超精密拋光，加工精度：納米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)；表面粗糙度：優(yōu)于0.5nm RMS；可對石英、微晶、ULE、BK7、單晶硅、碳化硅、藍(lán)寶石、硫化鋅等材料，實(shí)現(xiàn)平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面加工。如果您對我們感興趣，歡迎來電咨詢！