導(dǎo)語(yǔ)：磁流變拋光技術(shù)是20世紀(jì)80年代國(guó)外發(fā)展起來(lái)的一種新興的高端光學(xué)制造技術(shù)，具有很多傳統(tǒng)手工、機(jī)械拋光所無(wú)法達(dá)到的優(yōu)點(diǎn)，因而取得了巨大發(fā)展。

隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，光學(xué)系統(tǒng)發(fā)展呈現(xiàn)井噴式發(fā)展，對(duì)于其中的光學(xué)元件也提出了越來(lái)越高的要求。例如在導(dǎo)航、衛(wèi)星地圖、半導(dǎo)體、光刻機(jī)等國(guó)家重大領(lǐng)域以及手機(jī)攝像頭、單反相機(jī)等民用產(chǎn)品，光學(xué)元件不僅需要面形精度高、中高頻誤差好以及形位誤差可控等控形要求，而且需要表面質(zhì)量好、亞表面損傷小等控性要求，對(duì)于光學(xué)制造提出了嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。

目前我國(guó)的光學(xué)制造加工大部分還處在手工拋光、傳統(tǒng)機(jī)械拋光往數(shù)控?cái)?shù)字化加工過(guò)渡的階段，存在精度低、表面粗糙、效率低、產(chǎn)能低及批量化程度低的問(wèn)題。

目前廣泛應(yīng)用于高精度光學(xué)鏡面拋光的主要數(shù)控拋光方法包括：小磨頭拋光（ CCOS）、應(yīng)力盤(pán)拋光（SLP）、液體射流拋光（ FJP）、離子束拋光（IBF）、氣囊拋光（Bonnet Polishing）和磁流變拋光（MRF）。

磁流變拋光原理示意圖

磁流變拋光技術(shù)是20世紀(jì)80年代國(guó)外發(fā)展起來(lái)的一種新興的高端光學(xué)制造技術(shù)，利用磁流變液在磁場(chǎng)中的流變性對(duì)工件進(jìn)行拋光，磁流變液進(jìn)入拋光區(qū)后在磁場(chǎng)作用下變成粘塑性的介質(zhì)，形成“柔性拋光模”與光學(xué)零件表面接觸時(shí)會(huì)產(chǎn)生很大的剪切力，從而實(shí)現(xiàn)材料的穩(wěn)定去除，達(dá)到拋光、修形的目的，形象比喻成“永不磨滅的砂輪”。替代傳統(tǒng)的依賴(lài)于人的經(jīng)驗(yàn)的光學(xué)加工方法，能夠有效解決光學(xué)元件的加工精度高、收斂要求高、表面質(zhì)量好、亞表面損傷低以及中高頻誤差可控等需求，成為光學(xué)元件高精度、低成本、自動(dòng)化制造的有效手段之一，應(yīng)用越來(lái)越廣泛。

卓精藝磁流變拋光機(jī)床

磁流變拋光技術(shù)具有應(yīng)用范圍廣、亞表面損傷小、加工精度高、面形收斂效率高等特點(diǎn)，具有廣闊的發(fā)展前景，磁流變拋光技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)包括：高精度、高穩(wěn)定性、高確定性、高可預(yù)測(cè)性、高可重復(fù)性和高可復(fù)制性。

適用材料：石英、微晶、ULE、BK7、單晶硅、碳化硅、藍(lán)寶石、硫化鋅等

適用形狀：平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面

加工精度：納米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)

表面粗糙度：優(yōu)于0.5nm RMS

由于磁流變拋光技術(shù)具有眾多優(yōu)點(diǎn)，磁流變拋光技術(shù)取得了巨大的發(fā)展，特別是在高精度光學(xué)鏡面加工中表現(xiàn)出色，磁流變拋光技術(shù)已成為高精度光學(xué)鏡面高效、自動(dòng)化制造的有效加工方法之一。

卓精藝具有20年的工藝研究和裝備研制經(jīng)驗(yàn)，根據(jù)市場(chǎng)發(fā)展需求，研發(fā)推出應(yīng)用型磁流變拋光機(jī)床，具有供貨周期短，性?xún)r(jià)比高，讓企業(yè)用得起高端拋光裝備，發(fā)揮巨大經(jīng)濟(jì)效益，助力于光學(xué)智能拋光裝備應(yīng)用型推廣！

如果您對(duì)我們感興趣，歡迎來(lái)電咨詢(xún)！